第4回EUV-FELワークショップ

【日時】2019年12月10日（火）13:00―17:05
【場所】秋葉原　UDX　4F NEXT1
　　　　https://udx-akibaspace.jp/gallery-n/

【参加定員 】120名
【参加費】無料
【主催】EUV-FEL光源産業化研究会、高エネルギー加速器研究機構

　　HP URL   ：https://conference-indico.kek.jp/indico/event/93/

【参加申込】上記HomePageからお申し込みください。
　　　　　（尚、定員になり次第締め切らせていただきます。）

【プログラム】
（基調講演）
　「産業界への波及を目指す新波長域レーザー技術開発」
　　 佐藤 正健氏（産業技術総合研究所）

　「先端半導体とパターニング技術の現状と今後」
　    井上 壮一氏（キオクシア（株））

（一般講演）
　「cERLを用いた高繰り返しFELの実証とEUV-FELのその先」
　    加藤 龍好氏（KEK）

　「レジスト材料の軟X線FEL光照射に関する研究」
　    岡本 一将氏（大阪大学）

　「リソグラフィ応用光源（DUV/EUV）の最近の進展」
　    溝口 計氏 （ギガフォトン（株））

　「超伝導高周波加速器の低コスト化と次世代技術」　
　    道園 真一郎氏（KEK）

以上

開催案内第4回EUV-FELワークショップ開催案内
ワークショップポスター第4回EUV-FELワークショップワークショップポスター

担当：EUV-FEL光源産業化研究会事務局　河田 洋（KEK)

　E-mail：euv-ws★ml.post.kek.jp　（★を＠へ変更願います）