COVID-19の動向に鑑みて、下記の通り「第5回EUV-FELワークショップ」を

リモートにて開催する運びとなりました。

本ワークショップは半導体業界と加速器業界の第一線でご活躍されている7名の

講師をお招きいたしました。

量産を迎えて益々勢いのあるEUVリソグラフィを含めた半導体業界の最近及び今

後の展開・展望に関する基調講演一件、招待講演三件、また、加速器をベースに

したEUV大強度光源開発（EUV-FELだけではなくリング型FELの開発状況を含めて）

や加速器の他の産業応用の可能性を含めた見知からの招待講演三件でプログラム

いたしました。

プログラム：

【基調講演】12:40-13:20

　Fundamental Research to Solve the EUV Technical Issues and Future Prospect for

　　EUVL toward Advanced Devices Fabrication（兵庫県立大学　渡邊健夫）

【招待講演1】13:20-13:50

　Compact Storage Ring FEL: a kW-scale EUV lithography source.（Lyncean Technologies, Inc., (CTO)　Rod Loewen）

【招待講演2】13:50-14:20

　Construction and commissioning of cERL IR-FEL toward realization of the EUV-FEL（KEK　中村典雄）

【招待講演3】14:20-14:50

　Industrial application of accelerator : Medical RI production（KEK　原田健太郎）

【招待講演4】15:20-15:50

　Driving Moore’ s Law through Process and Packaging Innovations（Intel K.K. 北野直樹）

【招待講演5】16:20-16:50

　EUV Lithography as key scaling enabler for logic and memory（IMEC　GeertVandenberghe）

【招待講演6】15:50-16:20

　High-NA EUV Lithography exposure tool for EUV roadmap extension（(ASML Jan van Schoot et al.）

今回はリモートで行うことから、米国（Lyncean Technologies, Inc）、ベルギー（IMEC）、オランダ（ASML）

からのご講演もいただくことができ、まさに国際ワークショップの段階に到達することができました。

本ワークショップは英語を使用言語として進めさせていただくことになりますが、グローバルな半導体・

加速器産業界、アカデミアの方々の参加が多くなるかと考えておりますので、ご躊躇されることなくご参加

いただきたいと存じます。

ご興味のある方は是非ご参加ください。

　　　　　　　　　　記

開催日時：2021年1月22日（金）12:30-17:00

開催方法：オンラインによるリモート方式（Zoom）

使用言語：英語

参加定員：300名以下

参加費：無料

主催：EUV-FEL光源産業化研究会、高エネルギー加速器研究機構・応用超伝導加

速器センター

HP URL：https://conference-indico.kek.jp/event/125/

参加申込：https://conference-indico.kek.jp/event/125/registrations/108/

　　　　　 ※ 締切：2021年1月18日（月）（定員になり次第締め切らせていただきます）

以上

担当：EUV-FEL光源産業化研究会事務局　河田 洋（KEK）

E-mail：euv-ws　at　ml.post.kek.jp　（at を＠へ変更してください）