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第4回EUV-FELワークショップ(2019.12.10)

第4回EUV-FELワークショップ

【日時】2019年12月10日(火)13:00―17:05
【場所】秋葉原 UDX 4F NEXT1
    https://udx-akibaspace.jp/gallery-n/

【参加定員 】120名
【参加費】無料
【主催】EUV-FEL光源産業化研究会、高エネルギー加速器研究機構

  HP URL   :https://conference-indico.kek.jp/indico/event/93/

【参加申込】上記HomePageからお申し込みください。
     (尚、定員になり次第締め切らせていただきます。)

【プログラム】
(基調講演)
 「産業界への波及を目指す新波長域レーザー技術開発」
   佐藤 正健氏(産業技術総合研究所)

 「先端半導体とパターニング技術の現状と今後」
     井上 壮一氏(キオクシア(株))

(一般講演)
 「cERLを用いた高繰り返しFELの実証とEUV-FELのその先」
     加藤 龍好氏(KEK)

 「レジスト材料の軟X線FEL光照射に関する研究」
     岡本 一将氏(大阪大学)

 「リソグラフィ応用光源(DUV/EUV)の最近の進展」
     溝口 計氏 (ギガフォトン(株))

 「超伝導高周波加速器の低コスト化と次世代技術」 
     道園 真一郎氏(KEK)

以上

開催案内第4回EUV-FELワークショップ開催案内
ワークショップポスター第4回EUV-FELワークショップワークショップポスター

担当:EUV-FEL光源産業化研究会事務局 河田 洋(KEK)

 E-mail:euv-ws★ml.post.kek.jp (★を@へ変更願います)

 

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